Между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и компанией «Отраслевые решения» заключен контракт на поставку первой российской установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм (фотолитографа).
Первый российский фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и его мультипликации на поверхности при производстве сверхбольших интегральных схем с проектной топологической нормой 350 нм. Контракт включает в себя поставку, установку и настройку оборудования.
«Сегодня мы закладываем основу нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее характеристики подтверждены на производственной базе, идет переход к серийному производству. Это первый шаг к созданию линейки российских литографов. Мы создали серьезный задел, который позволяет перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм», – отметил генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев.
Фотолитограф разработан в рамках реализации одного из первых проектов государственной программы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350-130 нм.
Ранее компания «Сила» представила корпоративный ноутбук СИЛА «Алдан» В-516. В настоящее время он уже доступен для заказа.
В Петербурге тестируют отечественный электробус
