Изображение иллюстративное
Как сообщил Василий Шпак, занимающий должность заместителя министра промышленности и торговли, на XXI конференции радиоэлектронной отрасли, в текущем году в России намечено начать разработку отечественного литографа, предназначенного для производства чипов на уровне 90 нм.
Исполнитель данного проекта будет определен по результатам проведенного конкурса. По всей вероятности, разработкой оборудования займутся специалисты Зеленоградского нанотехнологического центра, обладающие необходимым опытом. Например, они совместно с коллегами из белорусской компании «Планар» трудятся над литографами на 350 и 130 нм.
Тем не менее, в ЗНТЦ отметили, что решение о том, участвовать ли в конкурсе, на данный момент не принято, так как организация планирует завершить основные работы по 130-нанометровому оборудованию этой осенью, что требует значительных временных и кадровых ресурсов.
Согласно мнению отраслевых экспертов, отечественный литограф на 90-нм технологии, основанный на уже существующем 350-нм решении, может быть создан не более чем за четыре года, а сам проект потребует несколько сотен миллионов долларов. При этом существуют сложности не только с самим оборудованием, но и с доступностью соответствующей оптики, необходимых фотошаблонов и материалов.
