Изображение сгенерировано нейросетью
Совсем недавно в России начали производство 350-нм литографов, а теперь отечественные эксперты, при поддержке белорусских специалистов, создали опытный образец литографической установки, способной производить полупроводниковую продукцию по технологическим стандартам 130 нм. Об этом сообщил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров во время форума «Микроэлектроника 2026».
Одним из основных достижений в рамках этого проекта стал российский эксимерный лазер, который был специально разработан для 130-нм литографа. Как отметил Мантуров, теперь Россия входит в число стран, обладающих такой технологической базой, а министр промышленности и торговли Антон Алиханов добавил, что приемочные испытания оборудования запланированы на осень этого года.
Параллельно в России продолжается развитие электронно-лучевой литографии, которая, помимо прочего, необходима для создания фотошаблонов, используемых в производстве микрочипов. В Зеленограде завершается строительство научно-технологического центра, где планируется организовать производство таких изделий, а в дальнейшем предполагается поэтапный переход на более тонкие топологические нормы — вплоть до 28 нм.
