Skip to main content

Российский 350-нм фотолитограф уже готовИзображение: ГК «Элемент»

В рамках мероприятия «Микроэлектроника 2025» представители Зеленоградского нанотехнологического центра и компании «Отраслевые решения», входящей в состав «Элемента», подписали соглашение о поставке первого отечественного фотолитографа, предназначенного для 350-нм технологического процесса. В контракте предусмотрены поставка самого устройства, его установка и последующая наладка.

Фотолитограф, разработанный в ЗНТЦ, способен осуществлять проекционный перенос схемы с подготовленного фотошаблона на полупроводниковую пластину, а также его мультипликацию с топологией 350 нм. Почти весь процесс разработки проходил в тесном взаимодействии с белорусским предприятием «Планар».

Как отметил генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев, специалисты компании завершили создание оборудования с разрешением 350 нм, все расчетные параметры его функционирования были проверены в производственных условиях, и в настоящее время ведется подготовка к массовому производству.

Это важный шаг для российского литографического оборудования, позволяющий перейти к разработке полностью отечественной установки с более тонкими 90-нм технологическими нормами.

Close Menu
Новости интернет маркетинга, сайтов, новости нейросетей и технологий